Beberapa kaedah rawatan permukaan untuk bahagian mati

Rawatan permukaan adalah kaedah teknikal untuk membentuk lapisan permukaan buatan dengan ciri -ciri mekanikal, fizikal, dan kimia yang berbeza dari permukaan substrat. Tujuan rawatan permukaan adalah untuk memenuhi rintangan kakisan, rintangan haus, sifat hiasan, dan keperluan fungsi khusus lain produk. Di bawah ini kami membawa anda untuk memahami beberapa proses rawatan permukaan pembuatan sensor, mengikut kaedah klasifikasi proses rawatan permukaan logam biasa, rawatan permukaan dibahagikan kepada empat kategori: 1, rawatan permukaan mekanikal: sandblasting, tembakan letupan, penggilap, penggilap, menggilap, menggilap, memberus, penyemburan, lukisan, mengelap minyak dan sebagainya.2. Rawatan Permukaan Kimia: Biru dan Hitam, Fosforisasi, Pickling, Penyaduran Kimia Pelbagai Logam dan Aloi, Rawatan TD, Rawatan QPQ, Pengoksidaan Kimia, dan lain -lain. Rawatan permukaan elektrokimia: anodisasi, penggilap elektrokimia, elektroplating, dan lain -lain. Rawatan permukaan moden: CVD pemendapan wap kimia, pemendapan wap fizikal PVD, suntikan ion, penyaduran ion, rawatan permukaan laser, dll.

Di bawah ini kami akan memperkenalkan anda kepada beberapa proses rawatan permukaan.

Rawatan Permukaan Mekanikal: Sandblasting

Sandblasting adalah kesan pembersihan aliran pasir berkelajuan tinggi dan proses permukaan matriks kasar, ia pasir) suntikan berkelajuan tinggi untuk mengendalikan permukaan bahan kerja, menjadikan permukaan luar permukaan permukaan atau perubahan bentuk.

Rawatan Permukaan Kimia: Pickling

Teknologi rawatan permukaan kimia adalah kaedah yang berkesan untuk mencegah kakisan bahan keluli tahan karat, dan kaedah rawatan ini lebih efektif. Secara umum, semakin rendah kandungan kromium, semakin rendah rintangan kakisan bahan keluli tahan karat. Untuk rintangan kakisan yang optimum, lapisan logam yang rosak mesti dikeluarkan dalam masa untuk mencapai integriti permukaan keluli tahan karat aloi yang lebih baik.

Bagi sesetengah bahan keluli tahan karat berjenama, masa pengambilan lebih lama mungkin diperlukan. Dalam proses ini, kadang -kadang terdapat beberapa masalah warna yang serius, yang biasanya disebabkan oleh pembersihan gas yang lemah. Penyingkiran mekanikal kekotoran permukaan sahaja boleh meninggalkan zarah -zarah yang kasar atau lain -lain (yang boleh menjejaskan rintangan kakisan bahan), dan kaedah mekanikal tunggal ini biasanya tidak mencukupi untuk membersihkan sepenuhnya permukaan. Jika cara mekanikal digunakan, passivation kimia juga diperlukan untuk mencapai rintangan kakisan yang optimum bahan. Proses pengambilan kadang -kadang menggunakan beberapa asid kuat, seperti campuran asid hidrofluorik (HF) dan asid nitrik (HNO3), untuk mengeluarkan lapisan kotoran dan lapisan pengurangan kromium bawah untuk memulihkan rintangan kakisannya. Campuran HF dan HNO3 adalah yang paling biasa dan biasanya yang paling berkesan. Perlu dinyatakan bahawa asid boleh digunakan dalam pelbagai bentuk seperti gel atau tampal. Campuran asid hidrofluorik yang tersedia secara komersil dan asid nitrik mengandungi kira -kira sehingga 25% HNO3 dan 8% HF. Penyelesaian mencuci asid juga boleh menghilangkan bahan cemar tertanam, seperti keluli karbon, besi ferus, dan zarah oksida besi. Selain campuran HNO3 dan HF asid, banyak penyelesaian jeruk yang berbeza boleh digunakan, ada yang boleh digunakan untuk aplikasi khusus, tetapi proses penjerukan mereka cenderung sedikit lebih perlahan.

Rawatan Permukaan Elektrokimia: Anodisasi

Proses pengoksidaan elektrolitik di mana permukaan aluminium dan aloi aluminium biasanya ditukar menjadi filem oksida dengan pelindung, hiasan, dan beberapa sifat fungsional lain. Dari definisi ini, pengoksidaan anodized aluminium hanya termasuk proses menghasilkan filem anodized. Bahagian logam atau aloi digunakan sebagai anod untuk membentuk filem oksida. Filem oksida logam mengubah keadaan permukaan dan sifat, seperti pewarna permukaan, meningkatkan rintangan kakisan, meningkatkan rintangan dan kekerasan memakai, melindungi permukaan logam, dan lain -lain. Kg / persegi mm, rintangan haba yang baik, anodize keras filem mencairkan sehingga 2320K, penebat yang sangat baik, memakai rintangan terhadap voltan sehingga 2000V, meningkatkan rintangan kakisan, dalam = 0.03nacl garam semburan selepas beribu -ribu jam tanpa kakisan.

Rawatan permukaan moden: pemendapan wap fizikal PVD

Pemendapan wap fizikal (pemendapan wap fizikal), merujuk kepada keadaan vakum, menggunakan voltan rendah, teknologi pelepasan arka semasa yang tinggi, penggunaan pelepasan gas untuk menguap bahan sasaran dan bahan dan gas yang diejah diionkan, menggunakan pecutan elektrik medan, bahan yang disejat, dan produk reaksinya yang didepositkan pada bahan kerja. Pemendapan wap fizikal (pemendapan wap fizikal), merujuk kepada keadaan vakum, menggunakan voltan rendah, teknologi pelepasan arka semasa yang tinggi, penggunaan pelepasan gas untuk menguap bahan sasaran dan bahan dan gas yang diejah diionkan, menggunakan pecutan elektrik medan, bahan yang disejat, dan produk reaksinya yang didepositkan pada bahan kerja.